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金屬掩膜版該如何選購表面檢查燈?
瀏覽次數:1694發布日期:2021-11-26

LUYOR-3320新款LED平行光表面檢查燈可用于檢查金屬掩膜版的表面質量

LUYOR-3320采用亮度為10顆大功率led光源,窄角度直射透鏡,光束集中,不照射操作者眼睛,不刺眼,適合長時間工作;可手持操作,也可以通過臺式支架作為臺式檢查燈使用。可以多臺組合,檢查各種尺寸屏幕,用戶也可以根據需求選擇多波段光源:白光、特殊綠光,黃光。

什么是金屬掩模版?

金屬掩模版又稱光罩:fine metal mask,縮寫:FMM.

光掩模版、掩膜版,英文名稱 MASK 或 PHOTOMASK),材質:石英玻璃、金屬鉻和感光膠,該產品是由石英玻璃作為襯底,在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠,成為一種感光材料,把已設計好的電路圖形通過電子激光設備曝光在感光膠上,被曝光的區域會被顯影出來,在金屬鉻上形成電路圖形,成為類似曝光后的底片的光掩模版,然后應用于對集成電路進行投影定位,通過集成電路光刻機對所投影的電路進行光蝕刻,其生產加工工序為:曝光,顯影,去感光膠,最后應用于光蝕刻。

什么是光刻?

光刻(英語:photolithography)是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構,然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質層,例如玻璃、SOS中的藍寶石。

首先,通過金屬化過程,在硅襯底上布置一層僅數納米厚的金屬層。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠。這層光阻劑在曝光(一般是紫外線)后可以被特定溶液(顯影液)溶解。使特定的光波穿過光掩膜照射在光刻膠上,可以對光刻膠進行選擇性照射(曝光)。然后使用前面提到的顯影液,溶解掉被照射的區域,這樣,光掩模上的圖形就呈現在光刻膠上。通常還將通過烘干措施,改善剩余部分光刻膠的一些性質。

上述步驟完成后,就可以對襯底進行選擇性的刻蝕或離子注入過程,未被溶解的光刻膠將保護襯底在這些過程中不被改變。

刻蝕或離子注入完成后,將進行光刻的最后一步,即將光刻膠去除,以方便進行半導體器件制造的其他步驟。通常,半導體器件制造整個過程中,會進行很多次光刻流程。生產復雜集成電路的工藝過程中可能需要進行多達50步光刻,而生產薄膜所需的光刻次數會少一些。

金屬掩模版產品圖片1

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金屬掩膜版產品圖片2

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